|
Экспозиция - количественная мера излучения, воздействующего на светочувствительный элемент за время освещения. Представляет собой общее количество света, падающее на светочувствительный элемент для образования скрытого изображения, т. е. равна произведению интенсивности падающего на светочувствительный элемент света на время, в течение которого он подвергается облучению. Интенсивность света регулируется величиной диафрагмы, а время — выдержкой. Для видимого излучения экспозиция может быть рассчитана как произведение освещённости на выдержку, в течение которой свет воздействует на светочувствительный элемент: матрицу или фотоэмульсию.
Для видимого излучения экспозиция выражается в лк×с (люксах в секунду). Термин также употребляется применительно к самому процессу экспонирования светочувствительного элемента, и в других областях, связанных с облучением светочувствительных слоев: рентгенографии, фотолитографии и т. п. 
Демонстрация влияния выдержки на фотографию. С увеличением выдержки при неизменной диафрагме увеличивается экспозиция
|
